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      ZHIWU DNA香蘭柔潤滋養乳

      ZHIWU DNA香蘭柔潤滋養乳

      所屬品牌:

      所屬類別:面霜/乳液

      安全星級:
      • 安全成分
      • 較安全成分
      • 潛在風險成分

      含有香精:0種

      含有防腐劑:2種(羥苯甲酯、羥苯丙酯)

      含有風險成分:1種(羥苯丙酯)

      含有孕婦慎用:0種

      全成分信息(點擊成分名稱,查看詳情)
      名稱作用風險活性致痘防曬
      溶劑1
      異棕櫚酸乙基己酯皮膚調理劑1
      甘油保濕劑
      溶劑
      1-2
      丙二醇`保濕劑
      溶劑
      抗菌劑
      3
      辛酸/癸酸甘油三酯柔潤劑
      溶劑
      1
      聚二甲基硅氧烷 成膜劑
      柔潤劑
      1-31
      甘油硬脂酸酯乳化劑
      柔潤劑
      1
      PEG-100 硬脂酸酯 乳化劑
      表面活性劑
      清潔劑
      1-31
      環五聚二甲基硅氧烷柔潤劑
      增稠劑
      溶劑
      3
      鯨蠟硬脂醇乳化劑
      柔潤劑
      增稠劑
      12
      生育酚(維生素E)抗氧化劑
      保濕劑
      1活性成分
      黃原膠 增稠劑
      乳化穩定劑
      1
      羥苯甲酯防腐劑3-4
      羥苯丙酯防腐劑9
      柚油
      尿囊素舒緩抗敏
      保濕
      皮膚調理劑
      1活性成分
      丙烯酸鈉/丙烯酰二甲基牛磺酸鈉共聚物`增稠劑
      乳化穩定劑
      1
      月桂醇聚醚-6乳化劑31
      礦油柔潤劑
      溶劑
      抗靜電
      1-3
      甘草酸二鉀舒緩抗敏
      抗炎劑
      保濕劑
      1活性成分
      透明質酸鈉保濕劑
      皮膚調理劑
      1活性成分

      保濕成分:6種

      抗氧化成分:1種

      抗衰成分:2種

      舒敏成分:2種

      去痘成分:1種

      名稱作用風險活性致痘
      甘油保濕劑
      溶劑
      1-2
      丙二醇保濕劑
      溶劑
      抗菌劑
      3
      生育酚(維生素E)抗氧化劑
      保濕劑
      1活性成分
      尿囊素舒緩抗敏
      保濕
      皮膚調理劑
      1活性成分
      甘草酸二鉀舒緩抗敏
      抗炎劑
      保濕劑
      1活性成分
      透明質酸鈉保濕劑
      皮膚調理劑
      1活性成分

      藥監局批準/備案文號:津G妝網備字2014000660

      生產國/地區:武清區

      生產企業:權健自然醫學科技發展有限公司

      備案日期:2014-12-17

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