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      赫蓮娜菁華修護滋養面膜

      赫蓮娜菁華修護滋養面膜

      英文名稱:HELENA RUBINSTEIN PRODIGY MASK

      所屬品牌:赫蓮娜

      所屬類別:面膜

      安全星級:
      • 安全成分
      • 較安全成分
      • 潛在風險成分

      含有香精:1種(香精)

      含有防腐劑:4種(苯氧乙醇、氯苯甘醚、苯甲酸、山梨酸)

      含有風險成分:1種(香精)

      含有孕婦慎用:0種

      全成分信息(點擊成分名稱,查看詳情)
      名稱作用風險活性致痘防曬
      溶劑1
      苯氧乙醇防腐劑
      抗菌劑
      2-4
      生物糖 膠-1保濕劑
      舒緩抗敏
      1活性成分
      甘油 保濕劑
      溶劑
      1-2
      變性乙醇溶劑
      抗菌劑
      收斂劑
      4
      阿拉伯膠樹膠 黏度控制
      粘合劑
      2-3活性成分
      黃原膠增稠劑
      乳化穩定劑
      1
      云母 著色劑2
      CI 77891著色劑1-3
      泛醇保濕劑
      柔潤劑
      抗氧化劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      EDTA 二鈉螯合劑1
      氯苯甘醚 防腐劑3
      香精香精香料8
      辛基十二醇乳化劑
      溶劑
      增稠劑
      1
      膽甾醇柔潤劑
      乳化劑
      黏度控制
      1
      丁羥甲苯抗菌劑
      抗油脂氧化劑
      3
      1,2-戊二醇 保濕劑
      增溶劑
      抗菌劑
      1
      水解大米蛋白保濕劑
      抗靜電
      皮膚調理劑
      頭發調理劑
      1活性成分
      歐洲水青岡芽提取物抗氧化劑
      保濕劑
      1活性成分
      苯甲酸防腐劑32
      山梨酸防腐劑2
      蜂蜜柔潤劑
      保濕劑
      增稠劑
      1活性成分
      假葉樹根提取物抗炎劑
      保濕劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      咖啡因抗氧化劑
      防脫養發
      健美功效成分
      1活性成分
      羥棕櫚酰二氫鞘氨醇抗氧化劑
      保濕劑
      1活性成分

      抗氧化成分:4種

      抗衰成分:3種

      保濕成分:9種

      舒敏成分:1種

      名稱作用風險活性致痘
      咖啡因抗氧化劑
      防脫養發
      健美功效成分
      1活性成分
      假葉樹根提取物抗炎劑
      保濕劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      1,2-戊二醇保濕劑
      增溶劑
      抗菌劑
      1
      甘油保濕劑
      溶劑
      1-2
      生物糖 膠-1保濕劑
      舒緩抗敏
      1活性成分
      蜂蜜柔潤劑
      保濕劑
      增稠劑
      1活性成分
      水解大米蛋白保濕劑
      抗靜電
      皮膚調理劑
      頭發調理劑
      1活性成分
      歐洲水青岡芽提取物抗氧化劑
      保濕劑
      1活性成分
      泛醇保濕劑
      柔潤劑
      抗氧化劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      羥棕櫚酰二氫鞘氨醇抗氧化劑
      保濕劑
      1活性成分

      藥監局批準/備案文號:國妝備進字J20170577

      生產國/地區:法國

      生產企業:赫蓮娜

      備案日期: 2017-01-11

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