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      赫本后多肽修護面膜

      赫本后多肽修護面膜

      所屬品牌:

      所屬類別:面膜

      安全星級:
      • 安全成分
      • 較安全成分
      • 潛在風險成分

      含有香精:0種

      含有防腐劑:0種

      含有風險成分:0種

      含有孕婦慎用:0種

      全成分信息(點擊成分名稱,查看詳情)
      名稱作用風險活性致痘防曬
      溶劑1
      甘油、保濕劑
      溶劑
      1-2
      雙甘油保濕劑1
      極大螺旋藻提取物`皮膚調理劑1活性成分
      1,2-己二醇保濕劑1
      丁二醇 保濕劑
      溶劑
      抗菌劑
      1
      芽孢桿菌/大豆發酵產物提取物抗氧化劑1活性成分
      葉酸`柔潤劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      透明質酸鈉保濕劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      血清蛋白頭發調理劑
      皮膚調理劑
      活性成分
      膠原保濕劑
      抗氧化劑
      1活性成分
      β-葡聚糖 保濕劑
      舒緩抗敏
      皮膚調理劑
      1活性成分
      羥丙基四氫吡喃三醇抗氧化劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      乙酰谷氨酰胺皮膚調理劑
      保濕劑
      1活性成分
      卵磷脂保濕劑
      抗氧化劑
      1-2活性成分
      寡肽-1保濕劑
      抗氧化劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      辛甘醇柔潤劑
      抗菌劑
      1
      六肽-11皮膚調理劑1活性成分
      寡肽-2抗氧化劑1活性成分
      寡肽-3抗氧化劑1活性成分
      超氧化物歧化酶抗氧化劑
      還原劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      對羥基苯乙酮抗氧化劑1
      水解透明質酸鈉保濕1活性成分
      黃原膠增稠劑
      乳化穩定劑
      1
      甘草酸二鉀舒緩抗敏
      抗炎劑
      保濕劑
      1活性成分
      尿囊素舒緩抗敏
      保濕
      皮膚調理劑
      1活性成分

      保濕成分:13種

      抗氧化成分:9種

      抗衰成分:4種

      舒敏成分:3種

      去痘成分:1種

      名稱作用風險活性致痘
      甘油保濕劑
      溶劑
      1-2
      雙甘油保濕劑1
      1,2-己二醇保濕劑1
      丁二醇保濕劑
      溶劑
      抗菌劑
      1
      芽孢桿菌/大豆發酵產物提取物抗氧化劑1活性成分
      透明質酸鈉保濕劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      膠原保濕劑
      抗氧化劑
      1活性成分
      β-葡聚糖保濕劑
      舒緩抗敏
      皮膚調理劑
      1活性成分
      羥丙基四氫吡喃三醇抗氧化劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      乙酰谷氨酰胺皮膚調理劑
      保濕劑
      1活性成分
      卵磷脂保濕劑
      抗氧化劑
      1-2活性成分
      寡肽-1保濕劑
      抗氧化劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      辛甘醇柔潤劑
      抗菌劑
      1
      寡肽-2抗氧化劑1活性成分
      寡肽-3抗氧化劑1活性成分
      超氧化物歧化酶抗氧化劑
      還原劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      對羥基苯乙酮抗氧化劑1
      甘草酸二鉀舒緩抗敏
      抗炎劑
      保濕劑
      1活性成分
      尿囊素舒緩抗敏
      保濕
      皮膚調理劑
      1活性成分

      藥監局批準/備案文號:甘G妝網備字2021000006

      生產國/地區:中國

      生產企業:甘肅媄安醫療美容科技有限公司

      備案日期:2021-02-02

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