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      Base Formula 芳程式凈化修復面膜

      英文名稱:Base Formula Recovery Purifying Mask

      所屬類別:面膜

      安全星級:
      • 安全成分
      • 較安全成分
      • 潛在風險成分

      含有香精:0種

      含有防腐劑:2種(脫氫乙酸、苯甲醇)

      含有風險成分:0種

      含有孕婦慎用:0種

      全成分信息(點擊成分名稱,查看詳情)
      名稱 作用 風險 活性 致痘 防曬
      溶劑 1
      高嶺土 吸附劑
      填充劑
      1
      甘油 保濕劑
      溶劑
      2
      膨潤土 吸附劑 2
      甜扁桃油 舒緩抗敏
      保濕劑
      1 活性成分
      牛油果樹果脂 柔潤劑
      皮膚調理劑
      1 活性成分
      刺阿干樹仁油 柔潤劑
      保濕劑
      抗氧化劑
      1 活性成分
      鯨蠟硬脂醇 乳化劑
      柔潤劑
      增稠劑
      1 2
      椰油基葡糖苷 清潔劑
      表面活性劑
      增泡劑
      1 活性成分
      椰油醇 柔潤劑
      乳化劑
      1
      甘油硬脂酸酯 乳化劑
      柔潤劑
      1
      山雞椒果油 氣味抑制劑
      皮膚調理劑
      活性成分
      薰衣草油 皮膚調理劑 1 活性成分
      麝香草花/葉油 皮膚調理劑
      氣味抑制劑
      活性成分
      乳香油 柔潤劑
      抗炎劑
      控油抗脂溢
      抗氧化劑
      1 活性成分
      向日葵籽油 柔潤劑
      保濕劑
      皮膚調理劑
      1 活性成分
      生育酚(維生素E) 抗氧化劑
      保濕劑
      1 活性成分
      脫氫乙酸 防腐劑 1
      EDTA 二鈉 螯合劑 1
      苯甲醇 防腐劑
      溶劑
      5

      保濕成分:5種

      抗氧化成分:3種

      抗衰成分:2種

      控油成分:1種

      舒敏成分:1種

      名稱 作用 風險 活性 致痘
      生育酚(維生素E) 抗氧化劑
      保濕劑
      1 活性成分
      刺阿干樹仁油 柔潤劑
      保濕劑
      抗氧化劑
      1 活性成分
      乳香油 柔潤劑
      抗炎劑
      控油抗脂溢
      抗氧化劑
      1 活性成分
      甘油 保濕劑
      溶劑
      2
      甜扁桃油 舒緩抗敏
      保濕劑
      1 活性成分
      向日葵籽油 柔潤劑
      保濕劑
      皮膚調理劑
      1 活性成分

      藥監局批準/備案文號:

      生產國/地區:

      生產企業:

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