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      水·貝娜竹炭花植凈化面膜

      水·貝娜竹炭花植凈化面膜

      英文名稱:SeiBella Charcoal & Flower Detoxifying Mask

      所屬品牌:水貝娜

      所屬類別:面膜

      安全星級:
      • 安全成分
      • 較安全成分
      • 潛在風險成分

      含有香精:1種((日用)香精)

      含有防腐劑:1種(山梨酸鉀)

      含有風險成分:1種((日用)香精)

      含有孕婦慎用:0種

      全成分信息(點擊成分名稱,查看詳情)
      名稱作用風險活性致痘防曬
      聚乙二醇-8柔潤劑
      溶劑
      1-3
      碳酸氫鈉 pH調節劑1
      丁二醇保濕劑
      溶劑
      抗菌劑
      1
      甘油硬脂酸酯 乳化劑
      柔潤劑
      1
      硅石膚感調節劑
      摩擦劑
      吸附劑
      0-2
      高嶺土吸附劑
      填充劑
      1
      1,3-丙二醇保濕劑
      增稠劑
      溶劑
      2
      甘油 保濕劑
      溶劑
      1-2
      溶劑1
      炭粉摩擦劑
      去角質
      吸附劑
      著色劑
      1
      生育酚乙酸酯抗氧化劑
      皮膚調理劑
      保濕劑
      3活性成分
      三羥基硬脂精 柔潤劑1
      弗來歇氏柳葉菜(Epilobium Fleischeri)提取物活性成分
      (日用)香精香精香料8
      庫拉索蘆薈(ALOE BARBADENSIS)葉提取物控油抗脂溢
      抗氧化劑
      抗炎劑
      1-3活性成分
      鯨蠟醇聚醚-25乳化劑
      表面活性劑
      清潔劑
      23
      油醇聚醚-10`乳化劑
      表面活性劑
      22
      柚籽提取物收斂劑
      皮膚調理劑
      1-4活性成分
      生物類黃酮抗氧化劑
      美白祛斑
      1活性成分
      綠花恩南番茄(ENANTIA CHLORANTHA)樹皮提取物
      山梨酸鉀防腐劑2
      意大利甘藍(BRASSICA OLERACEA ITALICA)提取物皮膚調理劑1活性成分
      檸檬酸pH調節劑
      抗菌劑
      去角質
      1-2
      黃原膠增稠劑
      乳化穩定劑
      1
      石竹素抗氧化劑
      保濕劑
      1活性成分

      保濕成分:5種

      去角質成分:2種

      抗氧化成分:4種

      抗衰成分:3種

      控油成分:1種

      美白/淡斑成分:1種

      去黑頭成分:1種

      名稱作用風險活性致痘
      丁二醇保濕劑
      溶劑
      抗菌劑
      1
      硅石膚感調節劑
      摩擦劑
      吸附劑
      0-2
      1,3-丙二醇保濕劑
      增稠劑
      溶劑
      2
      甘油保濕劑
      溶劑
      1-2
      炭粉摩擦劑
      去角質
      吸附劑
      著色劑
      1
      生育酚乙酸酯抗氧化劑
      皮膚調理劑
      保濕劑
      3活性成分
      庫拉索蘆薈(ALOE BARBADENSIS)葉提取物控油抗脂溢
      抗氧化劑
      抗炎劑
      1-3活性成分
      鯨蠟醇聚醚-25乳化劑
      表面活性劑
      清潔劑
      2 3
      柚籽提取物收斂劑
      皮膚調理劑
      1-4活性成分
      生物類黃酮抗氧化劑
      美白祛斑
      1活性成分
      檸檬酸pH調節劑
      抗菌劑
      去角質
      1-2
      石竹素抗氧化劑
      保濕劑
      1活性成分

      藥監局批準/備案文號:國妝網備進字(滬)2021000551

      生產國/地區:

      生產企業:美樂家(中國)日用品有限公司

      生產企業英文:上海市奉賢區奉浦遠東北路1515號龍洋工業園區16號廠房

      批準日期:2021年1月20日

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