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      hr二裂酵母水光修護面膜

      hr二裂酵母水光修護面膜

      所屬品牌:赫蓮娜

      所屬類別:面膜

      安全星級:
      • 安全成分
      • 較安全成分
      • 潛在風險成分

      含有香精:1種(香精)

      含有防腐劑:1種(羥苯甲酯)

      含有風險成分:1種(香精)

      含有孕婦慎用:0種

      全成分信息(點擊成分名稱,查看詳情)
      名稱作用風險活性致痘防曬
      溶劑1
      甘油 保濕劑
      溶劑
      1-2
      丙二醇保濕劑
      溶劑
      抗菌劑
      3
      PEG/PPG-17/6 共聚物 溶劑3
      赤蘚醇保濕劑1活性成分
      煙酰胺 美白祛斑
      皮膚調理劑
      保濕劑
      1活性成分
      抗壞血酸多肽抗氧化劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      二裂酵母發酵產物溶胞物﹑美白祛斑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      馬齒莧提取物抗菌劑
      抗炎劑
      抗氧化劑
      保濕
      1活性成分
      積雪草提取物舒緩抗敏
      抗氧化劑
      美白祛斑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      白柳樹皮提取物抗炎劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      阿拉伯膠樹膠 黏度控制
      粘合劑
      2-3活性成分
      落地生根葉提取物氣味抑制劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      尿囊素舒緩抗敏
      保濕
      皮膚調理劑
      1活性成分
      透明質酸鈉保濕劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      對羥基苯乙酮抗氧化劑1
      羥乙基纖維素 粘合劑
      乳化穩定劑
      成膜劑
      頭發調理劑
      1
      卡波姆增稠劑
      凝膠劑
      乳化穩定劑
      1
      三乙醇胺pH調節劑51
      香精香精香料8
      羥苯甲酯防腐劑3-4
      甘油辛酸酯柔潤劑1
      辛酰羥肟酸螯合劑
      抗菌劑
      PEG/PPG/聚丁二醇-8/5/3 甘油保濕劑3
      PEG-40 氫化蓖麻油乳化劑
      表面活性劑
      3

      保濕成分:8種

      美白/淡斑成分:3種

      抗衰成分:4種

      去角質成分:1種

      抗氧化成分:4種

      舒敏成分:3種

      去痘成分:2種

      名稱作用風險活性致痘
      甘油保濕劑
      溶劑
      1-2
      丙二醇保濕劑
      溶劑
      抗菌劑
      3
      赤蘚醇保濕劑1活性成分
      煙酰胺美白祛斑
      皮膚調理劑
      保濕劑
      1活性成分
      抗壞血酸多肽抗氧化劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      二裂酵母發酵產物溶胞物美白祛斑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      馬齒莧提取物抗菌劑
      抗炎劑
      抗氧化劑
      保濕
      1活性成分
      積雪草提取物舒緩抗敏
      抗氧化劑
      美白祛斑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      白柳樹皮提取物抗炎劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      尿囊素舒緩抗敏
      保濕
      皮膚調理劑
      1活性成分
      透明質酸鈉保濕劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      對羥基苯乙酮抗氧化劑1
      辛酰羥肟酸螯合劑
      抗菌劑
      PEG/PPG/聚丁二醇-8/5/3 甘油保濕劑3

      藥監局批準/備案文號:粵G妝網備字2020256044

      生產國/地區:中國

      生產企業:銘顏生物科技(廣州)有限公司

      備案日期:2020-12-03

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