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      席沛修護保濕面膜

      席沛修護保濕面膜

      英文名稱: hipena intense recovery rose mask

      產品功效:補水保濕

      所屬類別:面膜

      安全星級:
      • 安全成分
      • 較安全成分
      • 潛在風險成分

      含有香精:0種

      含有防腐劑:1種(氯苯甘醚)

      含有風險成分:0種

      含有孕婦慎用:0種

      全成分信息(點擊成分名稱,查看詳情)
      名稱作用風險活性致痘防曬
      溶劑
      1
      甘油保濕劑
      溶劑
      2
      黃瓜果提取物保濕劑
      防脫養發
      1活性成分
      丁二醇保濕劑
      溶劑
      抗菌劑
      11
      光果甘草根提取物美白祛斑
      舒緩抗敏
      抗氧化劑
      1活性成分
      卡波姆增稠劑
      凝膠劑
      乳化穩定劑
      1
      山梨(糖)醇保濕劑
      皮膚調理劑
      1
      刺海門冬提取物抗炎劑
      抗氧化劑
      1活性成分
      泡葉藻提取物抗氧化劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      丙二醇保濕劑
      溶劑
      抗菌劑
      3
      乙醇溶劑
      抗菌劑
      收斂劑
      2
      突厥薔薇提取物皮膚調理劑
      防脫養發
      抗氧化劑
      1活性成分
      氯苯甘醚防腐劑
      2
      庫拉索蘆薈葉汁粉控油抗脂溢
      抗氧化劑
      抗炎劑
      1活性成分
      甘露糖醇保濕劑
      粘合劑
      1
      甘草酸銨抗炎劑
      抗氧化劑
      美白祛斑
      1活性成分
      咖啡因抗氧化劑
      防脫養發
      健美功效成分
      1活性成分
      葡糖酸鋅控油抗脂溢
      抗炎劑
      3活性成分
      歐洲七葉樹提取物控油抗脂溢
      美白祛斑
      舒緩抗敏
      1活性成分

      舒敏成分:2種

      美白/淡斑成分:3種

      抗衰成分:6種

      控油成分:3種

      保濕成分:6種

      抗氧化成分:7種

      去痘成分:1種

      名稱作用風險活性致痘
      歐洲七葉樹提取物控油抗脂溢
      美白祛斑
      舒緩抗敏
      1活性成分
      丁二醇保濕劑
      溶劑
      抗菌劑
      11
      甘油保濕劑
      溶劑
      2
      光果甘草根提取物美白祛斑
      舒緩抗敏
      抗氧化劑
      1活性成分
      丙二醇保濕劑
      溶劑
      抗菌劑
      3
      庫拉索蘆薈葉汁粉控油抗脂溢
      抗氧化劑
      抗炎劑
      1活性成分
      葡糖酸鋅控油抗脂溢
      抗炎劑
      3活性成分
      泡葉藻提取物抗氧化劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      突厥薔薇提取物皮膚調理劑
      防脫養發
      抗氧化劑
      1活性成分
      黃瓜果提取物保濕劑
      防脫養發
      1活性成分
      刺海門冬提取物抗炎劑
      抗氧化劑
      1活性成分
      甘露糖醇保濕劑
      粘合劑
      1
      甘草酸銨抗炎劑
      抗氧化劑
      美白祛斑
      1活性成分
      咖啡因抗氧化劑
      防脫養發
      健美功效成分
      1活性成分
      山梨(糖)醇保濕劑
      皮膚調理劑
      1

      藥監局批準/備案文號:國妝備進字J20149832

      生產國/地區:臺灣

      生產企業:席沛國際有限公司

      生產企業英文:HIPENA INTERNATIONAL CO.,LTD.

      備案日期: 2014-11-18

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