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      h2+ 保濕護膚水

      h2+ 保濕護膚水

      英文名稱:h2+ Moisturizing Toner

      產品功效:補水保濕

      所屬類別:化妝水

      安全星級:
      • 安全成分
      • 較安全成分
      • 潛在風險成分

      含有香精:1種((日用)香精)

      含有防腐劑:1種(苯氧乙醇)

      含有風險成分:1種((日用)香精)

      含有孕婦慎用:0種

      全成分信息(點擊成分名稱,查看詳情)
      名稱作用風險活性致痘防曬
      溶劑1
      丁二醇保濕劑
      溶劑
      抗菌劑
      1
      掌狀海帶提取物氣味抑制劑
      抗氧化劑
      健美功效成分
      1活性成分
      苯氧乙醇 防腐劑
      抗菌劑
      2-4
      甘油保濕劑
      溶劑
      1-2
      甜菜堿`保濕劑
      抗靜電
      黏度控制
      1
      赤蘚醇保濕劑1活性成分
      海藻糖 保濕劑
      皮膚調理劑
      柔潤劑
      1活性成分
      皺葉木蘭樹皮提取物抗氧化劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      白柳樹皮提取物抗炎劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      茶葉提取物抗氧化劑
      收斂劑
      1-2活性成分
      柚果提取物﹑皮膚調理劑1-4活性成分
      蜂膠提取物抗炎劑
      抗氧化劑
      1活性成分
      羅漢柏枝提取物舒緩抗敏
      皮膚調理劑
      活性成分
      母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)提取物舒緩抗敏
      抗炎劑
      抗氧化劑
      1活性成分
      PEG-40 氫化蓖麻油乳化劑
      表面活性劑
      3
      PEG-60 氫化蓖麻油`表面活性劑
      乳化劑
      溶劑
      清潔劑
      3
      須松蘿提取物抗菌劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      秦椒果提取物皮膚調理劑1活性成分
      檸檬酸鈉pH調節劑1
      EDTA 二鈉螯合劑1
      (日用)香精香精香料8
      膠態燕麥粉摩擦劑
      吸附劑
      1

      保濕成分:5種

      舒敏成分:1種

      抗氧化成分:5種

      抗衰成分:3種

      名稱作用風險活性致痘
      丁二醇保濕劑
      溶劑
      抗菌劑
      1
      赤蘚醇保濕劑1活性成分
      甘油保濕劑
      溶劑
      1-2
      母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)提取物舒緩抗敏
      抗炎劑
      抗氧化劑
      1活性成分
      茶葉提取物抗氧化劑
      收斂劑
      1-2活性成分
      皺葉木蘭樹皮提取物抗氧化劑
      皮膚調理劑
      1活性成分
      掌狀海帶提取物氣味抑制劑
      抗氧化劑
      健美功效成分
      1活性成分
      甜菜堿保濕劑
      抗靜電
      黏度控制
      1
      海藻糖保濕劑
      皮膚調理劑
      柔潤劑
      1活性成分
      蜂膠提取物抗炎劑
      抗氧化劑
      1活性成分

      藥監局批準/備案文號:國妝備進字J20142377

      生產國/地區:韓國

      生產企業:優諾化妝品株式會社

      生產企業英文:UNOCOS Co., Ltd.

      備案日期: 2014-05-04

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