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      Base Formula 芳程式凈化修復面膜

      Base Formula 芳程式凈化修復面膜
      • 成分表(共20種成分)
      Base Formula 芳程式凈化修復面膜成分表來自備案信息
      低風險19種 中風險1種 高風險0種
      • 含有致痘風險:1種   ( 鯨蠟硬脂醇 )
      • 含有防腐劑:2種   ( 脫氫乙酸、 苯甲醇 )
      名稱 安全等級 成分提示 作用
      1 溶劑
      高嶺土 1 吸附劑 填充劑
      甘油 2 保濕劑 溶劑
      膨潤土 2 吸附劑
      甜扁桃油 1

      活性成分

      舒緩抗敏 保濕劑
      牛油果樹果脂 1

      活性成分

      柔潤劑 皮膚調理劑
      刺阿干樹仁油 1

      活性成分

      柔潤劑 保濕劑 抗氧化劑
      鯨蠟硬脂醇 1

      致痘風險 2

      乳化劑 柔潤劑 增稠劑
      椰油基葡糖苷 1

      活性成分

      清潔劑 表面活性劑 增泡劑
      椰油醇 1 柔潤劑 乳化劑
      甘油硬脂酸酯 1 乳化劑 柔潤劑
      山雞椒果油 0

      活性成分

      氣味抑制劑 皮膚調理劑
      薰衣草油 2

      活性成分

      皮膚調理劑
      麝香草花/葉油 0

      活性成分

      皮膚調理劑 氣味抑制劑
      乳香油 1

      活性成分

      柔潤劑 抗炎劑 控油抗脂溢 抗氧化劑
      向日葵籽油 1

      活性成分

      柔潤劑 保濕劑 皮膚調理劑
      生育酚(維生素E) 1

      活性成分

      抗氧化劑 保濕劑
      脫氫乙酸 1

      防腐劑

      防腐劑
      EDTA 二鈉 1 螯合劑
      苯甲醇 6

      防腐劑

      防腐劑 溶劑
      Base Formula 芳程式凈化修復面膜備案參數
      • 備案名稱:Base Formula 芳程式凈化修復面膜
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